作者:标准资料网 时间:2024-05-27 16:30:10   浏览:8673   来源:标准资料网

【英文标准名称】:Testingofmaterialsforsemiconductortechnology;methodsforcharacterizingphotoresists;determinationofcoatingthicknesswithopticalmethods
【原文标准名称】:半导体工艺材料的检验.表示光致抗蚀剂特性的方法.第1部分:用光学测量法对涂层厚度的测定
【标准号】:DIN50455-1-1991
【标准状态】:作废
【国别】:德国
【发布日期】:1991-06
【实施或试行日期】:
【发布单位】:德国标准化学会(DE-DIN)
【起草单位】:
【标准类型】:()
【标准水平】:()
【中文主题词】:化工品;特性;光刻蚀;材料;试验;电子工程;厚度;测量;清漆;半导体工艺;材料试验;光学测量;覆层厚度;测量技术;检验
【英文主题词】:Chemicals;Coatingthickness;Electronicengineering;Inspection;Materials;Materialstesting;Measurement;Measuringtechniques;Opticalmeasurement;Photoresists;Properties;Semiconductortechnology;Testing;Thickness;Varnishes
【摘要】:Thestandarddefinesamethodwhichallowsthecharacterizationofphotoresistsbydeterminingthecoatingthickness.
【中国标准分类号】:H82
【国际标准分类号】:29_045
【页数】:3P.;A4
【正文语种】:德语